自動化システム　プロセス測定装置

お客様のご要望により工業関係のものすべての設計・製作を承ります。

オンラインUV測定装置

オンラインUV測定装置
用途:

液体サンプルのUV測定を自動で行い、成分濃度を測定する装置です。ディスプレイにUV計データ、分析結果、状態を表示します。

特徴
  • UV計ベースライン測定、サンプル流路切替、サンプル測定を専用ソフトによりコントロールします。
  • 恒温セルホルダにより、サンプルセルの温度を7～60℃の範囲で制御可能です。
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オンラインGCシステム

オンラインGCシステム
用途:

液体サンプルを希釈後、オートインジェクターのフローセルに導入し、ガスクロマトグラフFID検出器により分析を行います。

特徴
  • PTFE製フローセルを、バイヤルホルダにセットする事で標準のAOCが使用可能です。
  • 最大6成分のアナログ出力が可能です。

水分測定装置

カラム装置
用途:

ガスの水分を連続で測定する装置です。

特徴
  • 水分データは、パソコンに記録します。
  • 測定ラインパージモード付。

GC自動分析装置

GC自動分析装置
用途:

プロセス試料の分析を連続で行う装置です。前処理された試料は、ガスクロで分析されDCSにデータを伝送します。

特徴
  • サンプルの希釈機能を装備しています。
  • 2ライン平行して分析を行います。
  • ライン温度をmax.100℃まで昇温して分析が可能です。

ガス分析装置

ガス分析装置
用途:

各種分析機器から得られる結果データを内部PLCユニットにて自動収集します。
収集された分析データは、タッチパネルディスプレイに表示され上位PLCに送信します。

特徴
  • 2台のガスクロの分析結果を表示します。
  • 過去データの閲覧と検索がタッチパネル操作にて可能です。

ポータブル前処理装置

ポータブル前処理装置
用途:

軽量タイプの前処理装置です。ガス分析計の前処理に使用します。

特徴
  • 電子クーラー,ドレンセパレーター,フィルター，ポンプ，流量計装備。
  • フレームにアルミ材を使用し、小型，軽量で持ち運びが可能です。
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UV自動測定装置

UV自動測定装置
用途:

プロセスのサンプルをオンラインでUV測定する装置です。

特徴
  • 2ライン同時測定タイプです。
  • 自動操作でゼロ校正を行うことが可能です。
  • エアクーラー、パネル用除湿器付きです。

防爆恒温サンプリングシステム

防爆恒温サンプリングシステム
用途:

プロセスガスのGC分析に使用する前処理装置です。
サンプリング機器を恒温槽内に配置し加熱状態でガスの前処理を行います。
防爆地域で使用可能です。

特徴
  • サンプリング機器：エア式二方弁、高温用ポンプ、ドレンセパレーター、メンブレンフィルター
  • 分析ライン：3ライン
  • 恒温槽加熱方式：スチーム加熱
  • 恒温槽温度調節範囲：40～100℃

高露点ガスサンプリング装置

高露点ガスサンプリング装置
用途:

高露点ガスを測定する装置です。

特徴
  • 測定部は恒温室になっており、安定して高露点ガスが測定できます。
  • スチーム加熱の防爆仕様です。

湿度測定装置

湿度測定装置
用途:

高炉の送風と大気ガスの湿度を連続測定する装置です。

特徴
  • センサ部は恒温槽、サンプリング部は恒温室になっており安定して高露点ガスが測定できます。
  • 3ライン同時測定タイプです。

PH自動測定装置

PH自動測定装置
用途:

プロセスのPH測定を連続で行う装置です。

特徴
  • サンプルの希釈機能を装備しています。
  • 3ラインの切替測定が可能です。
  • 防爆地域での測定が可能です。(内圧防爆仕様)
　　 　　
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