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GC自動分析装置
2023/02/02
用途
プロセス試料の分析を連続で行う装置です。前処理された試料は、ガスクロで分析されDCSにデータを伝送します。
特徴
サンプルの希釈機能を有します。
2ライン平行して分析を行います。
ライン温度をmax.100℃まで昇温して分析が可能です。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
液体
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ガス分析装置
2023/02/02
用途
各種分析機器から得られる結果データを内部PLCユニットにて自動収集します。収集された分析データは、タッチパネルディスプレイに表示され上位PLCに送信します。
特徴
2台のガスクロの分析結果を表示します。
過去データの閲覧と検索がタッチパネル操作にて可能です。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体
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ポータブル前処理装置
2023/02/02
用途
軽量タイプの前処理装置です。ガス分析計の前処理に使用します。
特徴
電子クーラー,ドレンセパレーター,フィルター，ポンプ，流量計装備
フレームにアルミ材を使用し、小型，軽量で持ち運びが可能です。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体
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UV自動測定装置
2023/02/02
用途
プロセスのサンプルをオンラインでUV測定する装置です。
特徴
2ライン同時測定タイプです。
自動操作でゼロ校正を行うことが可能です。
エアクーラー、パネル用除湿器付きです。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
液体
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防爆恒温サンプリングシステム
2023/02/02
用途
プロセスガスのGC分析に使用する前処理装置です。サンプリング機器を恒温槽内に配置し加熱状態でガスの前処理を行います。防爆地域で使用可能です。
特徴
サンプリング機器：エア式二方弁、高温用ポンプ、ドレンセパレーター、メンブレンフィルター
分析ライン：3ライン
恒温槽加熱方式：スチーム加熱
恒温槽温度調節範囲：40～100℃
種類
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高露点ガスサンプリング装置
2023/02/02
用途
高露点ガスを測定する装置です。
特徴
測定部は恒温室になっており、安定して高露点ガスが測定できます。
スチーム加熱の防爆仕様です。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体
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湿度測定装置
2023/02/02
用途
高炉の送風と大気ガスの湿度を連続測定する装置です。
特徴
センサ部は恒温槽、サンプリング部は恒温室になっており安定して高露点ガスが測定できます。
3ライン同時測定タイプです。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体
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PH自動測定装置
2023/02/02
用途
プロセスのPH測定を連続で行う装置です。
特徴
サンプルの希釈機能を装備しています。
3ラインの切替測定が可能です。
防爆地域での測定が可能です。(内圧防爆仕様)
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
液体
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結露監視装置
2023/02/02
特徴
雰囲気中の湿度を監視して、結露の危険性を判断し警報発報します。
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体
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腐食モニタリングシステム
2023/02/02
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
液体
